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T-450 镀层测厚仪

电镀工艺是利用电解的原理将导电体铺上一层金属,形成镀层。镀层性能不同于基体金属,具有新的特征。能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。

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T-450 是一款应用广泛的能量色散型 X 射线荧光镀层测厚及材料分析仪。它非常适用于无损测量镀层厚度、材料分析和溶液分析,同时还能检测大规模生产的零部件及印刷线路板上的镀层。适用于客户进行质量控制、进料检验和生产流程监控。

产品性能

稳定性 :T-450 有着良好的长期稳定性,不需要经常校准仪器。

无需制备样品 : 无论是对镀层系统还是对固体和液体样品,仪器都能在没有标准片的情况下进行测量和分析。

综合性能 : 镀层分析定性分析定量分析镀液分析统计功能

技术参数

测量元素范围

(AI)-(U)

探测器

大面积探测器

应用分析

光路系统

垂直照射

放大倍数

光学 40-60X

显示模式

元素频谱显示

元素显示

标签图案显示

指标显示

显示元素及测量数值

摄像头

高清晰工业摄像头

放大功能

局部倍大

视窗大小

无级别式视窗大小

温度控制

前置放大及机箱温度控制

应用

单镀层,双镀层,合金镀层,电镀液

主机箱

输入电压

AC220V±10% 50/60HZ

通讯方式

高速USB传输

外观尺寸

555*573*573mm

腔体尺寸

410*478*245mm

X射线源

X射线管

高精度微聚焦光管

高压

0-50kV(程控)

管电流

0-1mA(程控)

目标靶

W

检测配置

操作模式

高精度手动调节

位置控制

XY 微米级手动调节

观察窗口

高透铅玻璃

测试时间

10-40s

软件特性

FP 算法,自动判断故障及校正,自动补偿算法

准直器

种类

固定型单孔

尺寸

0.2mm

多通道分析

探测器道址

4096道址

温度控制

自动前置放大温度控制



工作特点

·测量 5 (4 层镀层 + 底材层 ) 镀层,同时分析 15 种元素, 自动修正 X 射线重叠谱线

·测量精度高、稳定性好,测量结果精确至 uin

·快速无损测量,测量时间短,最快 10s 内得出测量结果

·可分析固体、溶液;定性、半定量和定量分析

·材料鉴别和分类检测,材料和合金元素分析,元素光谱定性分析

·强大的数据统计、处理功能:平均值、标准偏差、相对标准偏差、最大值、最小值等

·结果输出:直接打印或一键导出到 PDFExcel 文件;报告包含数据、图像、统计图表、客户信息等

·测量位置预览功能;高分辨率彩色 CCD 样品观察系统,标准光学放大倍数为 30

·提供全球服务及技术支持

应用领域:

电子行业

·确保元件可靠性,测量焊料合金成分和镀层厚度

·优化质量控制,确保产品生命期

如:分析导电性镀层金、钯厚度;测量电脑硬盘上的 NiP 层的厚度

五金电镀行业

·快速简单的分析,同时进行单层或多层镀层厚度测量和成分分析

·最多分析 4 层镀层

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